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• 光刻機是光刻工藝的核心設(shè)備? ? ? ??光刻機(lithography)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光...2022-11-22 08:50:23
• 光刻機——現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花光刻機——現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花光刻機，被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，制造難度非常大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。其售價高達7000萬美金。用于生產(chǎn)芯片的光刻...2022-11-17 09:58:03
• 光刻機光刻機2020-08-19 09:16:46
• 一文看懂光刻機較大的情況。9）去膠刻蝕完成后，通過特定溶劑，洗去硅片表面殘余的光刻膠。光刻機： 半導(dǎo)體制造業(yè)皇冠上的明珠光刻機根據(jù)應(yīng)用工序不同，可以分為用于生產(chǎn)芯片...2018-05-16 08:59:54
• URE-2000/A8紫外單面光刻機1、設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)：(1) 曝光面積：?200mm×200mm；?（2）分辨力：?3mm；（3）對準(zhǔn)精度：±2mm；（4）掩模尺寸：5英寸、7英寸、...2018-05-02 13:42:31
• URE-2000/30型光刻機9個透鏡）、i線濾光片、場鏡、冷光反射鏡1、反射鏡2（2）對準(zhǔn)工件臺l?光刻機底座l?工位切換臺（氣缸）l?掩模樣片整體運動臺l?掩模樣片相對運動臺l...2018-05-02 13:33:01
• URE-2000/17型光刻機（臺式）URE-2000/17型紫外深度光刻機技術(shù)特點：?????????采用雙目雙視場顯微鏡對準(zhǔn)；球碗調(diào)平,單片機控制,觸摸開關(guān),操作方便、實用性強。?1．技術(shù)參數(shù)l?曝光面積：4英寸l?...2018-05-02 13:27:42
• Nikon光刻機對準(zhǔn)機制和標(biāo)記系統(tǒng)研究步進式重復(fù)曝光光刻機出現(xiàn)于上世紀(jì)80年代早期，從那時起直至90年代后期出現(xiàn)第一臺準(zhǔn)分子激光光刻機商品為止，各種各樣的G線、I線光刻機統(tǒng)治了集成電路制造中的光刻工藝。...2018-01-31 09:33:17
• 投影式光刻機 Projection Photoetching Machines投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統(tǒng)通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。載...2017-12-29 09:04:54