• 掩膜板的制造和管理掩膜板的基材一般為熔融石英（quartz），這種材料對深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光學透射，而且具有非常低的溫度...2024-08-01 10:02:30
• 微流控芯片的加工制作技術，然后進行后續(xù)的微電鑄和微復制工藝。它不需要同步輻射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于實現(xiàn)微機械器件的大批量生產。根據紫外光深層光刻的工藝路線的不同，...2025-06-05 10:31:19
• 微流控中的烘膠技術高于其曝光后烘的溫度的情況下，如果負膠顯影后的結構在后烘前受到泛曝光（無掩膜板曝光），交聯(lián)程度會進一步增加，從而提高側壁的濕化學穩(wěn)定性，尤其是厚膠應用...2025-01-07 10:20:54
• 基于玻璃基底的細胞培養(yǎng)芯片研究（上）1.2微流控芯片的加工以 ITO玻璃為基質材料的細胞培養(yǎng)芯片制作主要包括掩膜板制作、ITO玻璃清洗,曝光、刻蝕、鍵合等步驟,見圖1。?圖1 玻璃芯片的...2024-12-05 10:22:20
• 微流控芯片3大制作技術，然后進行后續(xù)的微電鑄和微復制工藝。它不需要同步輻射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于實現(xiàn)微機械器件的大批量生產。根據紫外光深層光刻的工藝路線的不同，...2024-08-29 09:41:06
• 半導體掩膜版制造工藝及流程作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板，被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版。掩膜板可分為光掩膜版和投影掩膜版。光掩膜版包含了整個硅片的芯片圖形特征，進行1...2024-08-19 09:52:00
• 光刻膠的硬烘烤技術高于其曝光后烘的溫度的情況下。如果負膠顯影后的結構在后烘前受到泛曝光（無掩膜板曝光)，交聯(lián)程度的增加。因此，可以提高側壁的濕化學穩(wěn)定性特別是厚膠應用中...2024-07-01 11:48:28
• 勻膠“邊膠”的產生及改善措施觸式光刻的情況下是有問題的：由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高，即使在前烘后，掩膜板也會粘附在光刻膠膜上，會污染掩膜板。在曝光過程中，邊珠還會在光刻膠膜和掩...2024-02-22 09:54:25
• 從層析熒光到微流控生物芯片——現(xiàn)場快速檢驗（POCT）沒有產品出現(xiàn)。?理邦的m16磁敏免疫分析儀采用了通過多層納米膜淀積、多層掩膜板光刻等大規(guī)模集成電路工藝制造的生物芯片技術。圖2是其示意圖，其中每一個彩...2023-08-15 08:47:55
• 微流控芯片的制作工藝及注意事項積設備等。接下來，通過光刻技術將芯片的圖案轉移到光刻膠上。該步驟需要使用掩膜板，將設計好的芯片結構投影到光刻膠表面，并進行曝光和顯影處理。然后，使用薄...2023-07-20 09:59:05