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首頁 > 站內(nèi)搜索 > 全站搜索  '關(guān)鍵字: 曝光模式'
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  • 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制出實用深紫外光刻機為基臺(已經(jīng)銷售550臺,其中出口30多臺),配有高精度對準(zhǔn)模塊、真空曝光模式、雙面曝光模式、納米壓印模式、接近式模式、數(shù)字設(shè)定曝光間隙等諸多功能供...2017-07-28 16:03:16
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