光刻機的主要性能指標有哪些 2015-01-30 16:37:55 蘇州汶顥微流控技術(shù)股份有限公司 已讀 光刻機的主要性能指標有： 支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。 分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。 對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。 曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。 曝光光源波長為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。 附：光刻機——http://www.wcia.cn/product/product.php?search=search&lang=cn&class1=149&searchtype=0&content=%E5%85%89%E5%88%BB%E6%9C%BA 標簽: 光刻機 性能指標 實驗儀器 上一條小型噴霧干燥機在生產(chǎn)中可能出現(xiàn)的故障和解決方法 下一條傳統(tǒng)光學的曝光技術(shù)有哪些
